Оптические материалы и технологии

Максимал1.пая потребляемая мощность, кВт 46 15путрс11пис габаритные размеры камеры, мм 0 900 х 888 х 950 Общая киющадь, занимаемая установкой, м^ 7 Масса, кг 2300 Вакуумная установка А-1100 Q (фирма «Лейбольд-Гсреус», Германия) предиазиачена для нанесения металлов, полупроводни­ ковых материалов и диэлектриков в электронике и оптике. Технические характеристики Время достижения давления 1,3 • 10 ' Па, мин, не менее 10 Максимальное число подложек 0 30 м м на арматуре 450 Полезная nJioHwib напыления, м^ 0,75 Скорость вращения подколпачной арматуры, с ' 0 - 0 , 5 Диапазон тшне рат уры нагрева подложек, °С 1004-50 Число рсзисгивных испаригаюй 4 Максимальная мощность РИ, кВт 4,4 Число элекчронно-лучевых испарителей 2 Максимальная мощность ЭЛИ, кВт 15 Сис гсма фотоме трического конфоля OMS 2000 Снекчральный диапазон измерений фонометрического контроля, мкм 0,2-3,2 Внутренние габарит1Ш1е размеры камеры, мм 0 1100 х 1100 Расход холодной воды нри давлении (2,3 + 3,0) ЮШа и темпе­ ратуре 5 -20 °С, л/с 0,12 Расход 1'орячей йоды нри давлении (3 + 5) 10^ Па и темпе­ р а гуре 80-90 °С, л/с 0,06 Средний расход жидкого азота, мЗ/с (10 -г- 25) 10 ' Смсачый воздух давлением. Па Максимальная потребляемая мощност ь, кВт 46 Oбн^aя площадь, занимаемая установкой, м^ 12 Масса, KI' 5500 4.2. С ганки для изготовления химических нокрытий В табл. 3.2 приведены основные типы одношпиидельных стан­ ков для изготовления химических покрытий на деталях диаметром от 3 до 1000 мм. Последующая термическая обработка покрытий осу- н^ествляется в различном серийном или нестандартном нагреватель­ ном оборудовании с максимальной температурой нагрева до 350 "С. 422