Оптические материалы и технологии

Вакуумная установка ВУ-ИЛО предназначена для асфериза- ции, ионного полирования, микрогравирования оптических дета­ лей, удаления некачественных пленок с оптических деталей. Технические характеристики Предварительное давление в рабочей камере, Па 6,710""'ч-3>10 ' Давлениев камере п р и обработке деталей, Па 110^+ 310*^ Максимальный диаметр обрабатываемой детали, м м 200 Число ионных источников типа «Кауфман» I Диаметр ионного пучка,м м 200 Плотность ионного пучка, мА/см^ I Ускоряющее напряжение, В 200-2000 Рабочий газ А р г о н Максимальная скорость съема материала, мкм/ч: на металлах (медь) . 6,3 ±1,3 диэлектриках (стекло) 2,7 ± 0,6 Внутренние габаритные размеры камеры, мм 0 450 х 560 Максимальная потребляемая мощность, кВт 12 Общая площадь, занимаемая установкой, м^ 4 Масса, кг 1400 Вакуумная установка УРМЗ-279.011 предназначена для полу­ чения диэлектрических покрытий методом резистивного и элект­ ронно-лучевого испарения. 130 50 0,35 0,2-1,7 100-400 3 2 I 4,8 0,12 0,05 (2-^5) 10^ Технические характеристики Время достижения давления 6,5-10"'Па, мин, не более Максимальное число подложек 0 40 мм на арматуре Полезная площадь напыления, м^ Частота вращения подколпачной арматуры, с ' Диапазон температуры нагрева подложек, "С Число резистивных испарителей Максимальная мощность РИ, кВт Число электронно-лучевых испарителей Максимальная мощность ЭЛИ, кВт Расход холодной воды при давлении (3 5) 10' Па и температуре 15-20 °С, л/с Расход горячей воды при давлении (3 + 5) 10' Па и темпера­ туре 80-90 °С, л/с Сжатый воздух давлением. Па 419