Оптические материалы и технологии

в данной главе приведены технические характеристики неко­ торых наиболее распространенных моделей станков и оборудова­ ния. В эту группу оборудования включены станки для изготовле­ ния оптических покрытий методом нанесения их из растворов (хи­ мические покрытия), вакуумные установки для изготовления опти­ ческих покрытий в вакууме (физические покрытия). 4.1. Вакуумное оборудование Вакуумная установка ВУ-2ММ предназначена для нанесения покрытий на оптические детали методом электронно-лучевого и резистивного испарения диэлектриков, полупроводниковых мате­ риалов и металлов с одновременным фотометрическим и кварце­ вым контролем толщины покрытия в автоматическом режиме про­ цесса напыления. Технические характеристики Время достижения давления 6-10"* Па, мин, не более 30 Максимальная масса подложек, устанавливаемых на арматуру, кг 10 Полезная площадь напыления, м^ 0,65 Частота вращения подколпачной арматуры, с ' 0,1-1,0 Диапазон температуры нагрева подложек, °С 50-320 Число резистивных испарителей (РИ) 1 Максимальная мощность РИ, кВт 4 Число электронно-лучевых испарителей (ЭЛИ) 2 Максимальная мощность ЭЛИ, кВт 6 Фотометрический контроль толщины СФКТ801У Диапазон фотометрического контроля, нм 200-2800 Максимальное число слоев, получаемых в одном технологическом цикле под управлением АСУТП 32 Максимальная потребляемая мощность, кВт 40 Общая площадь, занимаемая установкой, м^ 8 Масса, к г 2150 Вакуумная установка ВУ-2М-01 предназначена для нанесения покрытий на оптические детали методом электронно-лучевого, ре­ зистивного испарения диэлектриков, полупроводниковых матери­ алов и металлов с ионным ассистированием и одновременным кон­ тролем толщины покрытия. 414