Оптические материалы и технологии

I —• 3 2 б Рис. 2.98. Схема асферизации вакуумным методом; а - расположение заготовки, маски и испарителя; б - вакуумная установка При ЭТОМ длина выреза маски в любой зоне берется пропор­ циональной величине отступления заданной асферической поверх­ ности от исходной ближайшей сферы Ф = kt. Коэффициент пропорциональности к определяется из предель­ ных значений ф и ( д. Ф т а х ^тах Значение ф^^,* выбирается из условий жесткости маски. Величина в общем случае находится по следующей формуле: t = + а2У* + +...+а„у^" - ( i ? - в зоне, где л:асф==л:еф. Поскольку маска находится на некотором расстоянии от ас- феризуемой поверхности, полярная координата р отлична от ради­ уса зоны асферической поверхности >.• 228