Оптические материалы и технологии

Волновые аберрации нарезных дифракционных решеток атте­ стуют, используя следующие методы: - метод измерения разрешающей способности, при котором оп­ ределяют разность длин волн двух близко расположенных спектрапь- ных линий приблизительно равной интенсивности, находящихся на пределе разрешения; оборудование - спектрограф; относительная по­ грешность определения разрешающей способности составляет 5 -10%; - теневой метод исследования волнового фронта (качествен­ ный метод), при котором наблюдают равномерность потемнения поверхности решетки при закрывании линии ножом в фокальной плоскости спектрографа; оборудование - теневой прибор на осно­ ве спектрографа; можно обнаружить погрешность волнового фронта порядка Х/40 (А, - рабочая длина волны, мкм); -интерференционный метод исследования волнового фронта, в котором волна, дифрагированная от исследуемой решетки, срав­ нивается с плоской волной на двухлучевом интерферометре (чаще всего интерферометр Майкельсона, в котором одно из концевых зеркал заменяется решеткой, установленной по автоколлимацион­ ной схеме). Данный метод дает возможность выявлять распределе­ ние погрешностей деления по поверхности решетки, а также опре­ делять величину погрешностей волнового фронта с точностью до нескольких сотых долей длины волны; - измерение коэффициента отражения; при этом измерении ре­ шетка устанавливается в монохроматор, построенный по автокол­ лимационной или близкой к ней схеме; определяется отношение ве­ личины монохроматического лучистого потока, дифрагированно­ го решеткой, к потоку той же длины волны, отраженному от эта­ лонного зеркала; - измерение интенсивности рассеянного света ведут двумя ме­ тодами: 1) с источником сплошного спектра и светофильтром; 2) с монохроматическим источником. К геометрическим параметрам дифракционной решетки отно­ сятся линейные размеры штриха, конфигурация его профиля (пери­ од, глубина штриха, углы рабочей и нерабочей грани и др., кото­ рые контролируются Б зависимости от назначения решетки). Основ­ ной геометрический параметр - профиль штриха. Исследование 168