Оптические материалы и технологии

предварительная очистка фоторезиста от микровключений и гелеобразований производится спомощью устройства, состоящего из фильтра для очистки газообразного азота, распределителя с ом­ метром и собственно фильтра для очистки фоторезиста. Азотный фильтр очищает его от паров масла, воды и микровключений. Филь­ трация фоторезиста выполняется через мембранный фильтр «Вла- дипор» с размерами пор не более 2 мкм. Основные характеристики ГДР во многом определяются ка­ чеством светочувствительного слоя, на котором они формируются. Одним из важных параметров слоя является его плоскостность по поверхности подложки. Изменения толщины слоя не должны пре­ вышать 1/4А,. Этот параметр в больщинстве случаев определяется способом его нанесения. Наиболее распространенным является способ изготовления слоя на,несением светочувствительного раствора на вращающуюся заготовку - центрифугирование. Применительно к фоторезистивным светочувствительным ма­ териалам способ реализуется на выпускаемых промьшшенностью станках для просветления оптики типа СП-150 (центрифуги). Для их применения в технологическом процессе изготовления ГДР тре­ буются небольшие доработки, касающиеся, например, изготовле­ ния кожуха, из под которого производится необходимая откачка токсичных газов, выделяемых растворителями фоторезиста, и вве­ дение устройств дозировки и фильтрации фоторезиста. Способ цен­ трифугирования, однако, имеет свои ограничения. При нанесении фоторезиста на заготовки прямоугольной фор­ мы на ее углах происходят существенные изменения толщины слоя, что в дальнейшем приводит к ухудшению качества дифрагирован­ ного волнового фронта и в результате этого к снижению разреша­ ющей способности решетки. От этого недостатка свободен метод валкования - получение слоев при раскатывании светочувствительного раствора на поверх­ ности подложки. Устройство, основанное на принципе валкования, состоит из основания, на котором смонтированы электродвигатель с пере­ 154