Оптические материалы и технологии

то.произойдет его нагрев и испарение. В результате такого воздей­ ствия возможен местный нагрев в пределах 4500 - 5000°С. Такая температура позволяет испарять тугоплавкие сплавы, например, TiOi, Si02 и др. Процесс испарения осуществляется при глубоком вакууме на установке, принципиально не отличающейся от вакуумной ус­ тановки термического испарения. Электронно-лучевой испари­ тель типа УЭМ-1 включает электронную пушку, систему фоку­ сировки и поворота пучка электронов. Нагретый катод, испус­ кающий электроны, представляет собой спираль из пяти витков вольфрамовой проволоки диаметром 0,5 мм. Слабый электрон­ ный пучок, полученный в результате нагрева катода, формиру­ ется системой, состоящей из катода, анода и электромагнитных призм, а также разворачивается на 180° и направляется на ти­ гель, Для нанесения многослойных покрытий используют испа­ рители с несколькими тиглями. Тигель с напыляемым веществом охлаждается водой. Работа на установках с электронно-лучевыми испарителями проводится специалистами высокой квалификации. 2.4, Технологический процесс нанесения покрытий в вакууме Технологический процесс состоит из ряда последовательных операций; подготовки установки к работе; загрузки пленкообразу­ ющего вещества; очистки подложек (деталей); разрежения камеры; испарения пленкообразующего вещества; разгерметизации камеры; извлечения готовой продукции; контроля. В качестве примера рассмотрим процесс нанесения покрытия с помощью вакуумной установки путем термического испарения пленкообразующего вещества. На рис. 3.20 представлена структурная схема вакуумных ус­ тановок термического испарения. Основными узлами установки являются: вакуумная система; система контроля; система управле­ ния; система электропитания; вспомогательные системы. 401