Оптические материалы и технологии

ренционными, т.е. результат взаимодействия излучения с тонкой пленкой очень сильно зависит от ее толщины. Именно поэтому воп­ рос об измерении толщины пленки в процессе еероста оказывается чрезвычайно важным. Рассмотрение аппаратуры контроля толщин слоев под углом зрения возможной автоматизации процесса приве­ ло к развитию метода, основанного на изменении частоты или пе­ риода колебаний кристалла кварца при изменении его массы из-за нанесения на одну его поверхность пленки. Однако в процессе эксп­ луатации этих приборов выяснилось, что область их линейности не так уж велика и, кроме того, измеряемая ими величина массы зависит от давления и, естественно, от температуры, так как меха­ нические свойства кварца от температуры сильно зависят. Техни­ ческими усовершенствованиями эти эффекты снизить можно, но избежать полностью нет. Кроме этих недостатков, следует указать и, пожалуй, самый основной. Дело в том, что при помощи весового метода с кварцевым резонатором измеряется масса пленки. Для рас­ чета ее толщины необходимо знать точное значение ее плотности, а эта величина зависит от структуры получаемой пленки, т.е. зара­ нее вычисленной быть не может. Это вносит существенную ошибку в проводимые измерения, так как в зависимости от конкретных ус­ ловий необходима калибровка прибора. Такая калибровка может быть выполнена, но при резком усложнении прибора в целом, и до­ стигается при совмещении оптического интерференционного мето­ да контроля с кварцевым резонатором. По всей вероятности, такая методика может быть оправдана в каких-то прецизионных измере­ ниях, но для общеупотребительного метода контроля она не подхо­ дит. Именно поэтому наибольший упор в последние годы был сде­ лан на разработку оптического метода контроля. Для контроля пле­ нок, имеющих малую толщину, с успехом используется эллипсомет- рический метод. Для измерения толщин проводящих пленок при­ меняется метод СВЧ. Однако эти методы из-за технических проблем могут найти только очень узкое применение. Метод оптического контроля является более простым и раци­ ональным для оптических покрытий. Следует у читывать, что опти­ ческим методом также не получим точного значения толщины плен­ 387