Оптические материалы и технологии

ла2 . Та ким образом, отразившись о т г иперболоида , расходящийся пучок падает п о нормалям к сферическому зеркалу и отражается в обратном направлении, образуя автоколлимационное изображение источника света в фокусе гиперболоида . А н а л о г и ч н ым образом ис- пытываются и во г нутые эллипсоиды. Отражающие поверхности, не имеющи е анаберрационных то­ чек (поверхности выс око г о порядка), мо г у т быт ь исследованы те­ невым методом с п о м ощью компенсаторов, ко т орые представляют собой оптические системы, пр еобра з ующие отраженный о т испы­ туемой пов е рхнос ти п у ч о к в г омоцентриче ский п р и отсутствии ошибок ее изготовления. Теневой метод позволяет обнаруживать искажения волново г о фронта, равные 0,0015 - 0,01Х, (здесь Х - д л и н а в о л ны измерения, мкм), ч т о соответствует оши б к ам измеряемой поверхности в угло­ вой мере 0,05 - 0,075 у г ловых секунд п р и ши р и н е з оны 10 мм . Поскольку теневой ме т о д п р и виз уальном наблюд ении позво­ ляет проводит ь л ишь качественную оценку поверхности, его, как правило, сочетают с измерением кружка рассеяния. Эти измерения проводятся сп о м ощь ю тех же схем контроля, ч т о и теневой метод. НожФу ко в этом случае выводится из хода лучей, а кружок рассея­ ния измеряется сп о м ощь ю микроскопа. 2. Метод Фуко — Филберта В последние г о ды п о л у ч и л признание предложенный Филбер- том количественный способ оценки асферических поверхностей п о теневой картине, получаемый в случае применения метода Фуко. Способ основан при предпосылке, ч т о изменение освещеннос­ ти теневой картины пропорционально отклонениям измеряемой по­ верхности о т з аданно г о профиля. Количественная оценка достига­ ется заменой точечно г о источника света источником конечных раз­ меров и измерения степени перекрытия это г о источника, ч т о дает возможность численно связать аберрации зон измеряемой поверх­ ности с соответствующими и м освещенностями теневой картины. Дл я оценки проверяемой поверхности теневая картина анали­ зируется в меридиональном направлении п р и п о м ощи фотоэлект­ 263