Оптические материалы и технологии

в области X < ОДе (ультрафиолетовая и вакуумная ультрафио­ летовая области спектра) пиковые значения дифракционной эффек­ тивности ГДР не превь1шают 30 - 50 %, Для повышения дифракционной эффективности ГДР приме­ няются различные методы модификации профиля; 1) сканирование интерференционной картины и использова­ ние суперпозиции кратных частот ГДР (метод пригоден для ГДР с V < 500 ММ"'); 2) запись ГДР в сходящихся (контнаправленных) пучках с ис­ пользованием различных процессов травления (метод позволяет получить ГДР с углом «блеска» для v до 2400 мм~' с дифракционной эффективностьюдо 65 %). 3) ионное профилирование (травление). Ионное профилирование может быть реализовано одним из четырех способов; 1) использование маскирующего действия ГДР-классический способ; но он мало применим для ГДР на слоях ХСП из-за их боль­ ших скоростей ионного травления; 2) прямое ионное травление материала ГДР (дифракционная эффективность в этом случае сильно зависит от формы профиля исходной ГДР); 3) использование барьерного слоя (с низкой скоростью травления) при травлении вышележащего слоя (с большой скоростью травления); дифракционная эффективность до 70 % при углах «блеска» 7-15°. 4) использование многослойных структур; дифракционная эф­ фективность повышается до 80 - 85 % при углах «блеска» 4 - 25". Для получения ГДР с ассимметричной (пилообразной) формой штрихов используется оптическая схема, приведенная на рис. 2.72. Она состоит из лазерного источника 1, системы поворотных зеркал 2 и 3, коллиматора 4, большого поворотного зеркала 5 и оптической композиции 6, 7. Оптическая композиция представляет собой под­ ложку со светочувствительным слоем б, соединенную с оптическим клином 7 с помощью иммерсионной жидкости. Излучение лазера 7 направляется в коллиматор 4, на выходе которого образуется широ­ кий пучок света, падающий на подложку 6 со светочувствительным слоем, проходит через нее, отражается от задней поверхности опти­ ческого клина 7 и снова проходит через подложку б. Интерферен•62