Антенно-фидерные СВЧ-устройства

139 6.1. Частотная зависимость положения главного луча ДН Высокие системные требования к современным АФАР : чис - ло элементов – десятки , сотни и более ; мгновенная полоса рабочих частот – до 10 – 20 ГГц ; параллельность обзора – многолучевость или высокое ( микросекундное ) быстродействие при обзоре про - странства и связанные с этим трудности использования традицион - ной элементной базы функциональной электроники заставляют обращаться к альтернативным методам их построения , в частности , с применением элементов радиофотоники . Основным элементом современных АФАР является устрой - ство управления фазой ( УУФ ), которое в силу своей « узкополосно - сти » для рабочего диапазона частот определяет наличие частотной зависимости положения основного лепестка ДН , т . е . при разных излучаемых частотах положение основного лепестка ДН перестает быть фиксированным и может зависеть от значения указанной час - тоты . Покажем эту зависимость . Как видно из рис . 6.1, а , для формирования основного лепе - стка ДН в направлении угла θ к оси излучения необходимо исполь - зование УУФ с фазовой задержкой ∆ϕ , которая определяется соот - ношением 2 ∆ 2 sin . L d π π θ ∆ϕ = = λ λ (6.1) Тогда угол θ , характеризующий направление луча , будет оп - ределен как ∆ arcsin . 2 d λ ⋅ ϕ θ = π (6.2) Анализ (6.2) позволяет установить зависимость угла θ от длины волны λ ( или частоты ) излучаемого сигнала и определяет возможность использования УУФ лишь в узкополосных приложе - ниях .