Оптические материалы и технологии

3.26. Несмелое Е. А., Борисов А.Н., Никитин А. С., Гайнутди- нов И. С. Влияние структуры слоев интерференционного покрытия н а его оптические свойства //Оптический журнал. 1996. Т. 63. №11. С. 2 9 - 3 2 . 3.27. ОСТ 3-1901-95. Покрытия оптических деталей. Типы, ос­ новные параметры и методы контроля. М.; Изд-во ЦНИИ «Комп­ лекс», 1995. 3.28. Палатник Л.С., Фукс М.Я., Косевич В.М. Механизм об­ разования и субструктура конденсированных пленок. М.: Наука, 1972. 320 с. 3.29. Плешивцев Н.В. Катодное распыление. М.: Атоми з дат , 1968.343 с. 3.30. Розанов л. Н. Ваку умная техника. М.; Высша я школа , 1990. 320 с. 3.31. РозенбергГ.В. Оптика тонкослойных покрытий . М.: Физ- матгиз, 1958. 547 с. 3.32. Справочник технолога-оптика / Под. ред. М.А. Окатова. СПб.; Политехника, 2004. 679 с. 3.33. Суйковская Н.В. Химические методы получения тонких прозрачных пленок. Л.: Химия , 1971. 200 с. 3.34. ТеленА. Ко н с т р у и р о в а ни е мно г о с лойных интерферен­ цио нных светофильтров II Физика тонких пленок . Пер. с англ. п о д ред. В.Б Са н д оми р с к о г о и А . Г . Ждана . М.: Ми р , 1972. Т.5. С. 4 6 - 83. 3.35. Тихонравов А.В. Синт е з слоистых сред. М.: Знание . 1987.48 с. 3.36. Фурман Ш.А. Тонкослойные оптические покрытия. Л,: Машиностроение, 1977. 257 с. 3.37. Хасс Г. Физика тонких плепок. В 8 т. М.; Мир, 1980. 3.38. Холлэнд Л. Нанесение тонких пленок в ваку уме . М.; Госэнергоиздат, 1963. 606 с. 3.39. Черненко В.И., Снежко Л.А., Папанова И.И. Получение покрытий анодно-искровым электролизом. Д.: Химия , 1991. 127 с. 3.40. Штиллер В. Уравнение Аррениуса и неравновесная кине­ тика. М.: Мир, 2000. 176 с. 76